Technologies de base en lithographie (traité EGEM)

Maison d'édition : Hermes Science

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Résumé

Toujours plus vite, plus petit et à moindre coût. Tels sont les maîtres mots des technologies qui façonnent et façonneront le nano-monde. La lithographie est aujourd'hui un outil complexe au cœur d'un procédé technologique de fabrication de micro et nano composants. Technologie pluridisciplinaire par excellence, la lithographie repousse sans cesse les limites de l'optique, de la chimie, de la mécanique, la micro et nano fluidique. L'ouvrage Technologies de base en lithographie, traite des technologies et procédés incontournables et principalement utilisés dans la fabrication industrielle de microprocesseurs et autres composants électroniques. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, Technologies de base en lithographie, permettra aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des techniques en constante évolution.

Sommaire

Préface. Les imagiciens. L'alchimie de la représentation des origines à la nanosphère. Introduction. Enjeux de la lithographie. Chapitre 1. La photolithographie. Chapitre 2. Lithographie extrême ultraviolet. Chapitre 3. Lithographie électronique. Chapitre 4. L'écriture par faisceau d'ions focalisés. Chapitre 5. L'optique des particules chargées. Chapitre 6. Résines pour la lithographie. Conclusion. Bibliographie. Index.

Caractéristiques

Editeur : Hermes Science

Edition : 1^ère édition

Intérieur : Couleur

Support(s) : eBook [PDF]

Langue(s) : Français

Code(s) CLIL : 2013, 3069, 3051

EAN13 (papier) : 9782746224452

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